| Разработчики: | Микрон (Mikron) |
| Дата премьеры системы: | 2025/02/26 |
| Отрасли: | Электротехника и микроэлектроника |
2025: Тестирование высокочувствительного фоторезистра
Микрон тестирует высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов 90 нм. Об этом компания сообщила 26 февраля 2025 года.
В техпроцессах Микрона используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей, ведется активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.
 | Выпуск отечественных материалов для микроэлектроники открывает путь к прекращению монополии иностранных игроков. Работы по импортозамещению важно вести в кооперации с научными учреждениями – тогда исследования сразу переходят в производство, - отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон». – Отечественный фоторезист для 90 нм - это важная веха в импортозамещении материалов и развитии производства микроэлектроники. |  |
В программе Микрона по импортозамещению материалов участвуют на февраль 2025 года более 16 российских производителей и научных институтов. Отечественный фоторезист выпускается на предприятии Приволжского федерального округа, центра химической промышленности, обеспечивающего более 40% от общего объема производства российских химических материалов.
Фоторезист – светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, который используется в ключевом процессе изготовления интегральных микросхем с целью получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Строгое соответствие материала необходимым техническим требованиям и стандартам микроэлектронного производства обеспечивает точное формирование элементов на пластине.
